-
1 plasma chemical vapor deposition
Универсальный русско-английский словарь > plasma chemical vapor deposition
-
2 microwave plasma chemical vapor deposition method
Chemistry: MPCVDУниверсальный русско-английский словарь > microwave plasma chemical vapor deposition method
-
3 chemical vapor deposition
(CVD)Химическое осаждение из паровой фазыМетод нанесения покрытий, в котором химические вещества сначала испаряются, а затем осаждаются на поверхность с помощью инертного газа-носителя, такого как азот. Например, осаждение металла проводится путем термического разложения его летучих соединений. CVD-процессы могут поддерживаться с помощью плазмы (PECVD = Plasma Enhanced CVD, усиленное плазмой CVD) или инициироваться ею (PACVD = активированное плазмой CVD). В качестве важных применений плазменных CVD-процессов выступают осаждение пленок аморфного углерода и кремния, а также пленок нитрида титана, карбида титана или нитрида кремния.Russian-English dictionary of Nanotechnology > chemical vapor deposition
-
4 plasma enhanced chemical vapor deposition
Engineering: PECVDУниверсальный русско-английский словарь > plasma enhanced chemical vapor deposition
-
5 plasma-assisted chemical vapor deposition
Automation: PACVDУниверсальный русско-английский словарь > plasma-assisted chemical vapor deposition
-
6 plasma-enhanced chemical vapor deposition
High frequency electronics: PECVDУниверсальный русско-английский словарь > plasma-enhanced chemical vapor deposition
-
7 plasma-promoted chemical vapor deposition
Semiconductors: PPCVDУниверсальный русско-английский словарь > plasma-promoted chemical vapor deposition
-
8 плазмохимическое осаждение из паровой фазы
1) Engineering: plasma enhanced chemical vapor deposition2) Silicates: plasma chemical vapor deposition3) Microelectronics: plasma-enchanced CVDУниверсальный русско-английский словарь > плазмохимическое осаждение из паровой фазы
-
9 химическое парофазное осаждение, активированное микроволновой плазмой
Универсальный русско-английский словарь > химическое парофазное осаждение, активированное микроволновой плазмой
-
10 плазмохимическое осаждение из паровой фазы
плазмохимическое осаждение из паровой фазы
Химическое осаждение из паровой фазы при низком давлении с использованием ВЧ-энергии.
—
[ http://www.cscleansystems.com/glossary.html]Тематики
EN
Русско-английский словарь нормативно-технической терминологии > плазмохимическое осаждение из паровой фазы
-
11 химическое осаждение из паровой фазы
(CVD)Химическое осаждение из паровой фазыМетод нанесения покрытий, в котором химические вещества сначала испаряются, а затем осаждаются на поверхность с помощью инертного газа-носителя, такого как азот. Например, осаждение металла проводится путем термического разложения его летучих соединений. CVD-процессы могут поддерживаться с помощью плазмы (PECVD = Plasma Enhanced CVD, усиленное плазмой CVD) или инициироваться ею (PACVD = активированное плазмой CVD). В качестве важных применений плазменных CVD-процессов выступают осаждение пленок аморфного углерода и кремния, а также пленок нитрида титана, карбида титана или нитрида кремния.Russian-English dictionary of Nanotechnology > химическое осаждение из паровой фазы
-
12 плазменно-химическое осаждение из газовой фазы
Универсальный русско-английский словарь > плазменно-химическое осаждение из газовой фазы
-
13 усиленное плазмой химическое осаждение из паров
Универсальный русско-английский словарь > усиленное плазмой химическое осаждение из паров
-
14 химическое осаждение паров или газов в плазменной среде
Automation: plasma-assisted chemical vapor depositionУниверсальный русско-английский словарь > химическое осаждение паров или газов в плазменной среде
См. также в других словарях:
plasma chemical vapor deposition — plazmocheminis garinis nusodinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. plasma chemical vapor deposition vok. plasmachemische Gasphasenabscheidung, f rus. плазмохимическое осаждение из паровой фазы, n pranc. dépôt plasmachimique… … Radioelektronikos terminų žodynas
chemical vapor deposition — Chemical Vapor Deposition (CVD) Химическое осаждение из паровой фазы Метод нанесения покрытий, в котором химические вещества сначала испаряются, а затем осаждаются на поверхность с помощью инертного газа носителя, такого как азот. Например,… … Толковый англо-русский словарь по нанотехнологии. - М.
Chemical vapor deposition — DC plasma (violet) enhances the growth of carbon nanotubes in this laboratory scale PECVD apparatus. Chemical vapor deposition (CVD) is a chemical process used to produce high purity, high performance solid materials. The process is often used in … Wikipedia
Chemical vapor deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
Plasma-enhanced chemical vapor deposition — PECVD machine at LAAS technological facility in Toulouse, France. Plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) is a process used to deposit thin films from a gas state (vapor) to a solid state on a substrate. Chemical reactions are involved… … Wikipedia
Chemical vapor deposition of diamond — Colorless gem cut from diamond grown by chemical vapor deposition Chemical vapor deposition of diamond or CVD is a method of producing synthetic diamond by creating the circumstances necessary for carbon atoms in a gas to settle on a substrate in … Wikipedia
Combustion chemical vapor deposition — (CCVD) is a chemical process by which thin film coatings are deposited onto substrates in the open atmosphere. Contents 1 History 2 Principles and procedure 3 Remote combustion chemical v … Wikipedia
Chemical Vapour Deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
Chemical vapour deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
Physical vapor deposition — (PVD) is a variety of vacuum deposition and is a general term used to describe any of a variety of methods to deposit thin films by the condensation of a vaporized form of the material onto various surfaces (e.g., onto semiconductor wafers). The… … Wikipedia
Plasma processing — is a plasma based material processing technology that aims at modifying the chemical and physical properties of a surface.Plasma processing techniques include: *Plasma activation *Plasma modification *Plasma functionalization *Plasma… … Wikipedia
